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簡(jiǎn)要描述：制冷加熱循環(huán)一體機(jī)，應(yīng)用于對(duì)玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置，用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。TCU制冷加熱循環(huán)裝置應(yīng)用
產(chǎn)品型號(hào)：SUNDI-575廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2024-01-06訪 問 量：415| 品牌 | LNEYA/無錫冠亞 | 價(jià)格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天 |
無錫冠亞冷熱一體機(jī)典型應(yīng)用于：
高壓反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、
雙層反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制；
小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測(cè)試、
組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。
TCU制冷加熱循環(huán)裝置應(yīng)用
TCU制冷加熱循環(huán)裝置應(yīng)用
在醫(yī)藥合成、精細(xì)化工操作過程中，我們經(jīng)常會(huì)遇到氧化反應(yīng)、酸堿中和等強(qiáng)放熱反應(yīng)，對(duì)于這些強(qiáng)放熱反應(yīng)，如果操控不當(dāng)或設(shè)備不給力就很容易出現(xiàn)靠譜事故或生產(chǎn)效率低的缺陷。TCU制冷加熱循環(huán)裝置通過控制盤管或是夾套內(nèi)的油溫來進(jìn)行工藝控制，也常常被稱為反應(yīng)釜夾套加熱裝置。
在持續(xù)的穩(wěn)定放熱反應(yīng)過程中，需要連續(xù)不間斷的向反應(yīng)釜夾套內(nèi)通冷卻水實(shí)施降溫才能勉強(qiáng)維持冷熱平衡，此謂釜底抽薪；但是，如果放熱突然加劇就易引發(fā)沖料、溢鍋或更大的靠譜事故，這其中的主要原因是反應(yīng)釜的單位體積換熱面積太小，單純的夾套降溫遠(yuǎn)不能滿足放熱工藝對(duì)冷能的需要量。
反應(yīng)釜反應(yīng)階段的溫度不是一個(gè)線性過程，其中有放熱、吸熱、反應(yīng)速率等各種因素的影響，單純的PID控制是控制不住的，全自動(dòng)控制實(shí)現(xiàn)起來難度很大，需要建立起數(shù)學(xué)模型，采用醫(yī)藥TCU制冷加熱循環(huán)裝置進(jìn)行控溫。
醫(yī)藥TCU制冷加熱循環(huán)裝置基于預(yù)測(cè)的模糊自整定PID集成控制技術(shù)實(shí)現(xiàn)反應(yīng)釜溫度控制，其主要思想是利用系統(tǒng)模型的預(yù)測(cè)輸出，結(jié)合常規(guī)PID的控制經(jīng)驗(yàn)，采用模糊推理方法，對(duì)控制器算法進(jìn)行改進(jìn)。醫(yī)藥TCU制冷加熱循環(huán)裝置與通常的PID控制方案相比，該設(shè)備提高了系統(tǒng)的魯棒性和適應(yīng)性，較好的解決了反應(yīng)釜溫度控制的難題。
