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簡要描述：【無錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備，?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。頂層介質(zhì)刻蝕(cathode)單通道chiller
產(chǎn)品型號：LTS-202廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2024-01-11訪 問 量：498| 品牌 | 冠亞制冷 | 冷卻方式 | 水冷式 |
|---|---|---|---|
| 價格區(qū)間 | 10萬-50萬 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
| 儀器種類 | 一體式 | 應用領域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥,汽車 |
主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備，
?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。
半導體專溫控設備
射流式?低溫沖擊測試機
半導體專用溫控設備chiller
Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)
Chiller直冷型
循環(huán)風控溫裝置
半導體?低溫測試設備
電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源
射流式高低溫沖擊測試機
快速溫變控溫卡盤
數(shù)據(jù)中心液冷解決方案
| 型號 | FLT-002 | FLT-003 | FLT-004 | FLT-006 | FLT-008 | FLT-010 | FLT-015 |
| FLT-002W | FLT-003W | FLT-004W | FLT-006W | FLT-008W | FLT-010W | FLT-015W | |
| 溫度范圍 | 5℃～40℃ | ||||||
| 控溫精度 | ±0.1℃ | ||||||
| 流量控制 | 10～25L/min 5bar max | 15～45L/min 6bar max | 25～75L/min 6bar max | ||||
| 制冷量at10℃ | 6kw | 8kw | 10kw | 15 kw | 20kw | 25kw | 40kw |
| 內(nèi)循環(huán)液容積 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
| 膨脹罐容積 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
| 制冷劑 | R410A | ||||||
| 載冷劑 | 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等 （DI溫度需要控制10℃以上） | ||||||
| 進出接口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
| 冷卻水口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
| 冷卻水流量at20℃ | 1.5m3/h | 2m3/h | 2.5m3/h | 4m3/h | 4.5m3/h | 5.6m3/h | 9m3/h |
| 電源380V | 3.5kW | 4kW | 5.5kW | 7kW | 9.5kW | 12kW | 16kW |
| 溫度擴展 | 通過增加電加熱器，擴展-25℃～80℃ | ||||||
頂層介質(zhì)刻蝕(cathode)單通道chiller
頂層介質(zhì)刻蝕(cathode)單通道chiller
側墻刻蝕單通道chiller其作用是保持半導體的冷卻和溫度穩(wěn)定。為了確保其正常運行和延長使用壽命，以下是一些防止注意事項：
1、保持設備清潔
側墻刻蝕單通道chiller內(nèi)部零件精細，容易受到灰塵和雜質(zhì)的影響。因此，使用過程中要注意保持設備清潔。定期清理冷凝器、散熱器和管道中的雜質(zhì)，避免堵塞和過熱。同時，對于外部設備，如泵和壓縮機等，也要保持清潔，避免灰塵和雜質(zhì)的積累。
2、正確使用和操作
使用側墻刻蝕單通道chiller時，要遵循操作規(guī)程。要確保使用的水質(zhì)符合要求，避免水中的雜質(zhì)和礦物質(zhì)對設備造成損害。其次，要根據(jù)需要設定適當?shù)臏囟群土髁浚苊庠O備過載或運行不穩(wěn)定。此外，在設備運行過程中，要密切關注各項參數(shù)，如壓力、溫度和流量等，及時調(diào)整和維修。
3、定期維護和保養(yǎng)
為了確保側墻刻蝕單通道chiller的正常運行和使用壽命，定期維護和保養(yǎng)是不可少的。這包括檢查冷凝器、散熱器和管道是否有堵塞或泄漏，檢查泵和壓縮機的運行狀況，以及更換過濾器等易損件。此外，定期清洗設備內(nèi)部和外部，確保設備清潔也是保養(yǎng)的重要內(nèi)容。
